2017威尼斯双年展于5月13日在威尼斯举行。在本次展览的军械库展区，来自比利时的建筑师兼艺术家Cédric van Parys运用UnionTech联泰科技SLA 3D打印机所设计的作品“进步纪念碑”成为本届威尼斯双年展上海设计周的点睛之作。
“进步纪念碑”是一座座上海高层建筑顶部形式多样的结构体。艺术家Cédric van Parys希望通过这些日新月异的“纪念碑”，展现出上海的过去、现在和未来。
Cédric van Parys在上海各行政区域寻找到代表这个区域的典型建筑。通过多个角度的拍摄，详细记录每座建筑的顶部外观结构。并利用建模技术、3D打印技术和手工的方式，将这些建筑物顶部结构安置在想象中的自然地理环境里。
C dric van Parys作品
C dric van Parys作品《进步纪念碑1号》（新黄浦区）
C dric van Parys作品《进步纪念碑4号》（老卢湾区）
由于Cédric van Parys预想的模型具有较强的空间感与线条感，借助3D打印能克服传统工艺在艺术品制作环节上较多的不足，例如变形、塌陷、裂缝、风干等细节。凭借3D打印技术，作品的设计理念在数字化后非常易于修改和完善，电脑端修改后的数据可以立即在打印设备上原物重现，大大简化了原本艰涩重复的创作修正过程，设计过程更高效，十分适合Cédric van Parys对“进步纪念碑”的设计理念。正如设计师Cédric van Parys感叹道：“我之所以采用3D打印技术，是因为只有3D打印才能实现我对作品细节制作的要求，能帮我实现0.3mm的细节处理。不得不说，3D打印的效果是很好的。”
为了保证作品的最终效果，经过仔细筛选，Cédric van Parys选择了中国优秀的3D打印企业UnionTech联泰科技。由于UnionTech联泰科技的光固化(SLA) 3D打印设备的精度高，能更好的生成物件的表面和内里质量。不仅能使打印物件的表面光洁细腻，更能实现复杂造型的需求。
借助UnionTech联泰科技的3D打印设备，Cédric van Parys很好地实现了自己对“进步纪念碑”的造型要求。为了追求作品的表面质量，UnionTech联泰科技同时为“进步纪念碑”进行高质量的表面喷漆后处理，使纪念碑表面色泽分明。
近年来，3D打印技术正让更多的艺术家能将自己的灵感变为现实，使艺术的形式脱离技术的束缚。而这就是UnionTech联泰科技所期望的。作为国内3D打印行业的领先者，UnionTech联泰科技希望能为所有心怀梦想的客户提供可靠的产品和完善的解决方案，用技术支撑着他们去实现所有的创意和理想。
艺术的灵感本身是不受任何形式所束缚的，唯一束缚艺术的是表现形式。在过去，艺术家们往往会遇到不能将灵感化为现实的难题，尤其在雕塑等立体艺术品领域。而今，借有成熟的3D打印技术，这种阻碍将被打破。艺术家们将拥有更强的捕捉灵感的能力，将自己的艺术作品推向极致。
UnionTech联泰科技的系列光固化(SLA)3D打印机的特点就在于在制品几何外形方面几乎是不受限制，利用这一技术应用可制造出几何形状具有极大独立性和自由度的制品等。
